चिसो प्लाज्म टेक्नोलोजी(पनि परिचितगैर-थर्मल प्लाज्माअथवाकम तापमान प्लाज्मा) एक अवस्थाको अवस्था आंशिक रूपमा आईएनयोजलीको एक अद्वितीय मिश्रण उत्पन्न गर्दै छबिनाउल्लेखनीय रूपमा बल्क ग्याँस काट्ने। यहाँ एक ब्रेकडाउन छ:
-
कोर अवधारणा:
-
प्लाज्मा प्रायः "पदार्थको चौथाई अवस्था" भनिन्छ (ठोस, तरल, ग्यास)। यसमा आशान, नि: शुल्क इलेक्ट्रोनहरू, तटस्थ परमाणु / अणुहरू, र विभिन्न उत्साहित प्रजातिहरू समावेश छन्।
-
भित्रथर्मल / तातो प्लाज्मा(वेल्डिंग आर्क वा बिजुलीमा जस्तै), सबै कणहरू (इलेक्ट्रोनहरू, आयनहरू, तटस्थहरू) धेरै उच्च तापमान (हजारौं c) मा थर्मल सन्तुलनमा छन्।
-
चिसो प्लाज्माएक गैर-सन्तुलन राज्य प्राप्त गर्दछ। इलेक्ट्रोनहरू अत्यधिक बलवान (10,000-100,000 ° c बराबर), तर भारी आयन र तटस्थ ग्यास अणुहरू कोठाको तापक्रमको नजिक रहन्छन् (सामान्यतया 2 25-600 डिग्री सेल्सियसको नजिक रहन्छ)। यो कुञ्जी हो।
-
कसरी यो उत्पन्न भयो:
-
एक मजबूत इलेक्ट्रिक क्षेत्र (AC, DC, पैताल, माइक्रोवेभ, ऑल्योगन, ऑक्सीजन, नाइट्रोजन, एयरप्रोड, अर्गोन, वा मिश्रण)
-
सामान्य पुस्ता विधिहरू:
-
डाइटेट्रिक बाधा डिस्चार्ज (DBD):एक डाईलेक्ट्रिक बाधा र ग्यास खाली द्वारा विभाजित गरिएको इलेक्ट्रोडहरू। फिलामिटरी वा मतभ्यास प्लाज्मा सिर्जना गर्दछ।
-
वायुमण्डलीय चालक प्लाज्मा जेट (Appj):ग्यास इलेक्ट्रोडहरू मार्फत प्रवाह गर्दछ, लक्ष्यमा निर्देशित प्लाज्माको एक भेग सिर्जना गर्दै।
-
कोरो डिस्चार्ज:उच्च-भोल्टेज इलेक्ट्रोड एक तीखो पोइन्टको साथ टिपको नजिक प्लाज्मा सिर्जना गर्दछ।
-
COPICITIOLY वा cockedly cfly rf प्लाज्मा।
-
कुञ्जी कम्पोनेन्टहरू र सक्रिय एजेन्टहरू:
-
ऊर्जावान इलेक्ट्रोनहरू:ड्राइभ प्रतिक्रियाहरू।
-
प्रतिक्रियाकारी अक्सिजन प्रजातिहरू (ROS):ओजोन (O₃), आणविक अक्सिजन (O), एकल अक्सिजन (O¹₂), सुपरोक्लिड (O₂⁻), हाइड्रोक्सिल कट्टरपन्थी (ओभर ओ)।
-
प्रतिक्रियाशील नाइट्रोजन प्रजातिहरू (RNN):नाइट्रिक अक्साइड (होईन), नाइट्रोजन डाइअक्साइड (नम्बर), पेरोक्सिनिटेट्रेट (Onoo⁻)।
-
UV फोटोहरू:उत्साहित प्रजातिहरूको रिचार्बलमा उत्सर्जन गरियो।
-
चार्ज कणहरू (आईआरए र इलेक्ट्रोनहरू):सतह संग अन्तर्क्रिया गर्न सक्नुहुन्छ।
-
विद्युतीय क्षेत्रहरू।
-
किन यो शक्तिशाली र अद्वितीय छ:
-
कम तापक्रम:गर्मी-संवेदनशील सामग्री (प्लास्टिक, जैविक ऊतक, खाना) को थर्मल क्षति बिना व्यवहार गर्न सक्नुहुन्छ।
-
प्रतिक्रियाशील रसायनरी:ROS, RNS, UV, र ions को ककटेलले कुशलतापूर्वक गर्न सक्दछ:
-
माइक्रोयर्गहरू मार्नुहोस् (ब्याक्टेरियाहरू, भाइरस, fungi, spores) मार्नुहोस्)।
-
सतह गुणहरू परिमार्जन गर्नुहोस् (उदासिनता, निर्देशन, प्रिन्टेसन)।
-
प्रदूषक र टोक्सिनहरू खसमा गिरावट।
-
विशेष रासायनिक प्रतिक्रियाहरूको प्रचार गर्नुहोस्।
-
जैविक प्रक्रियाहरूको उत्तेजित गर्नुहोस् (उदाहरणका लागि उपचार, घाउ, बीज अंकुरण)।
-
सुख्खा प्रक्रिया:प्राय: तरल पदार्थ वा कठोर रसायनहरूको आवश्यक पर्दैन।
-
द्रुत र कुशल:प्रतिक्रियाहरू सामान्यतया द्रुत रूपमा हुन्छन्।
-
वातावरण मैत्री:सामान्यतया न्यूनतम फोहोर रासायनिक विधिहरूको तुलनामा उत्पादन गर्दछ; उत्पन्न Ozone / rns स्वाभाविक रूपमा विजयी
-
प्रमुख अनुप्रयोगहरू:
-
बाँझो र विकरण:चिकित्सा उपकरणहरू, प्याकेजिंग सामग्री, अस्पताल सतहहरू, खाद्य सतहहरू (फल तरकारी, तरकारीहरू), पानी उपचार, वायु शुद्धीकरण।
-
औषधी (प्लाज्मा मेडिसिन):घाव र कीटनाशक र कीटा घाउ (दीर्घ घाउहरू, जलेको), क्यान्सर उपचार अनुसन्धान, दन्तचिकित्सा, छाला उपचार, रक्तक्षेपण।
-
सामग्री प्रोसेसिंग र सतह परिमार्जन:पेन्ट्स / कोटिंग्स / ग्लूहरू / गोलाहरूको लागि निर्देशन बढाउँदै, कपडा रटनाशक, सफाई सतहहरू, सफा गर्ने सतहहरू सिर्जना गर्दै।
-
खाना उद्योग:शेल्फ-जीवन निर्जीवता र बिच्छेदन जीवहरू उत्पादन, मासु, र प्याकेजिंगको हत्यामा; बीज अंकुरण वृद्धि। mycotoxin गिरावट।
-
कृषि:सुधारिएको वृद्धि / प्रतिरोध, शाखा रोग नियन्त्रणको लागि बीज उपचार।
-
वातावरणीय उपचार:अस्थिर जैविक यौगिक यौगिकहरू (Vocs) लाई हावामा भत्काउँदै, पानीमा संगठित गर्ने जैविक प्रदूषितहरू तोडे।
-
इलेक्ट्रोनिक्स:Eccing, जम्मा, वाफर र कम्पोनेन्टहरू।
-
ऊर्जा:ईन्धन सुधार गर्दै, दहन अभिवृद्धि।
सारमा:चिसो प्लाज्म टेक्नोलोजीले आंशिक रूपमा आंशिक आंशिक ग्यासको फन्टिजल विरोधी। यसले बहुमुखी, दक्ष, र अक्सर परम्परागत थर्मल, रल्ड-मैजिकल विकल्प प्रदान गर्दछ, र विविध क्षेत्रहरूमा विकिरण-आधारित प्रक्रियाहरू ठूलो चिन्ताको विषय हो। यो अनुसन्धान र औद्योगिक अनुप्रयोगको एक द्रुत रूपमा कार्यरत क्षेत्र हो।
